產 品 簡 介：
蒸發殘餘物測量儀
Nonvolatile Residue Monitor
最新的LiquiTrak蒸發殘餘物測量儀(NRM Model8000)使用了一個全新、專利的水基鐳射探測器，他的設計特點是用已被證實功效且具有獨特的方式檢測高純水蒸發後餘留顆粒(RAE).

NRM M8000結合了先進技術于一身，優勝於任何種類以前的同類機型。

 

當今半導體行業隨者特徵線寬的減小，製成中對超純水的品質要求越來越高，使之在沖洗晶圓後在表面留下的殘餘雜質將對產品質量產生重大影響。NRM是一個被列入行業標準的產品用於測量超純水中的蒸發殘餘物質，包括溶解矽和膠體矽。它監測所有不可蒸發的雜質，其中有些是不能被TOC、粒子、計數器、表等所監測到的。而且它通常也是也是第一個反應水質波動的儀器，由此而產生的提前警報將幫助您控制水質和預防產品受到水質變化影起的破壞。

目前，NRM是唯一符合ATSM的標準(超純水中蒸發餘留物的標準測量方法)的設備，編號：D5544-99

奈米微粒子收集裝置
nano-Particle Collection Device (nPCD)


 改良的奈米微粒子收集裝置(nPCD)能有效加強半導體生產風險上的管理

現今半導體製程已朝向32nm或更小線寬，而目前的光學微粒子計數器(Optical Particle Counter)無法偵測到50nm粒徑以下之微粒子(若要了解水中50nm粒徑以下之微粒子變化趨勢可使用 NRM-Nonvolatile Residue Monitor進行監測)，當微粒子計數器偵測到粒子數(大於50nm 粒徑之微粒子)快速增加時，計數器並無法提供微粒子結構及成份之相關資訊。

目前傳統的微粒子收集方式是以100nm 之SEM filter進行收集，但此方法需花費數週時間才可收集到足以進行微粒子結構分析(SEM分析)及成份分析(EDS分析)之數量，而花費如此長之時間為半導體產業所不允許的。

為了要彌補此傳統方式之不足，Fluid Measurement Technology Inc. 發展出奈米微粒子收集裝置(nPCD)，此裝置可於24小時或是在更短的時間內收集小於50nm粒徑之微粒子，接著只需再花數分鐘時間將收集之微粒子釋放並轉到SEM filter上，即可進行微粒子的結構及成份分析，藉此可幫助找到微粒子之污染來源。nPCD與傳統方式比較可大幅縮短微粒子之收集時間。